| 型 式 |
外 観 |
特 徴 |
仕 様 |
外熱式
高周波溶解炉 |
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本装置は、ガラス材料を真空中又は不活性ガス中で溶解し、磁場中で急冷固化を行う研究目的の装置です。
上記目的達成の為、外熱式にてプラチナルツボを高周波誘導加熱することにより、試料を溶解致します。 |
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高周波誘導
加熱真空溶解炉 |
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本装置は、高周波電源を使用した高周波誘導加熱真空溶解炉で、主にチタンを溶解する為に開発された装置です。
本装置の最大の特徴は、溶湯したチタンを攪拌する為に、ルツボを任意の角度に傾斜させた状態で回転することが可能です。 |
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| SVM-400R |
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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-400Rは誘導加熱式溶解炉で、ALを1500g(鉄換算400g)の容量まで溶解可能です。
高周波電源は5KW 30KHz仕様を採用しております。また添加バケットを2個標準装備しております。 |
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| SVM-500R |
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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-500Rは誘導加熱式溶解炉で、鉄換算500gの容量まで溶解可能です。
高周波電源は10KW 20～50KHz仕様を採用し、溶解時間の短縮を実現しております。
添加バケットを2個標準装備し、溶解中の温度監視が出来る様、熱電対も標準装備しております。
連成計にて加圧の監視も可能で、大気溶解も可能です。
本装置の最大の特徴は、高周波電源・加熱コイル用の循環式水冷却装置を標準装備しており、研究室のユーティリティ環境に配慮しております。 |
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| SVM-10000R |
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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-10000Rは誘導加熱式溶解炉で、Ni基やCr基を1000g(Ni換算)の容量まで溶解可能です。
高周波電源は10KW9.9KHz仕様を採用しております。また添加バケットを5個標準装備しております。 |
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| SVM-12000R |
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高周波誘導加熱真空溶解炉SVM-12000Rは金属材料及び合金を最大30Kg真空中または不活性ガス雰囲気中にて溶解・鋳造する装置です。
50KWの高周波電源を採用しておりますので、短時間に溶解が可能で、生産ライン用として開発された装置です。
従来の真空溶解炉は制御盤が大きく、作業スペースが狭いとの声に配慮し、制御盤の省スペース化も実現。
排気系は油回転ポンプ＋メカニカルブースターポンプ＋7500L/secの油拡散ポンプの組合せにより短時間にて排気可能です。 |
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真空
アーク溶解炉 |
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真空アーク溶解炉は消耗電極方式と非消耗電極方式と2種類あります。
電源は300Aと500Aを選択可能で、鋳型の形状はご要望に応じてカスタマイズ可能です。
弊社独自の急冷構造により、溶解した材料はすぐに取り出し可能です。
標準装備として、水冷電極、鋳型、試料反転機構、内部照明灯、油回転ポンプ、油拡散ポンプ、ブルドン管真空計、ピラニ真空計、電離真空計、真空バルブ、ガス導入弁、安全弁、アーク電源から構成され、スタンダード品でご希望の溶解が出来るようになっております。
オプションで、排気系自動操作やタッチパネル操作も可能です。 |
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