| 型 式 |
外 観 |
特 徴 |
仕 様 |
| IC-1500 |
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イオンプレーティング装置IC-1500は、油回転ポンプ・油拡散ポンプ・液体窒素トラップの排気系で構成され、粗引開始後5分で×10-4Pa台まで到達します。
ＥＢ方式により、あらゆる誘電体や金属の成膜に対応することが可能です。また直流安定化電源(バイアス用)、加熱機構、水晶式膜厚計も標準搭載しておりますので、より密着性の高い膜＆膜厚精度の高い膜を成形することも可能です。 |
詳細仕様 |
セラミック
コーティング装置 |
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本装置は高真空状態において基材にセラミックをコーティングする装置であり、チャンバー内温度を1200℃近くまで昇温可能です。また本装置の最大の特徴として、基材駆動機構を備えており、基材を回転・旋回・水平進をすることが可能です。
蒸発源として電子銃(JEOL製16KW電子銃)を採用しており、インゴット状の蒸発材料に対応する為にルツボ部が昇降・回転制御可能となっております。
成膜制御として、シャッター機構を有しておりますが、開閉時間の設定や反復運動の回数設定も行えます。
加熱ヒーターはカーボン製を採用しておりますので、ガス種に反応することがありません。 |
詳細仕様 |
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