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真空装置
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型 式
外 観
特 徴
仕 様
RIE装置
本装置はPoly-Si膜・酸化膜・窒化膜などをCF
4
,CHF
3
,SF
6
等のガスでエッチングするための装置です。
さらにO2ガスでのフォトレジストのアッシングができる性能を有しています。
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