| ED-1300 |
小型でシンプルな構造の実験用装置です。蒸着源は単極ですが、大量の蒸着材料で大面積の蒸着が可能です。ペルジャーはカウンターバランス方式により、基板の出し入れが容易です。少量の蒸着製品の生産用装置としての機能も備わっています。 |
| ED-1400 |
マスフローコントローラ式ガス導入系をもっているので、ガス分析や反応性蒸着が容易です。試料を400℃まで加熱することができるので、膜質を向上させるのに有効です。２種類の膜を同時蒸着ができ、排気系は自動操作です。 |
| ED-1500 |
金属、半導体、無機絶縁物だけでなく、有機物も蒸着できる特別な工夫がされています。基板は加熱あるいはガス冷却の個別操作ができます。３つの蒸発源をもっています。ターボ分子による良質の真空が得られます。電子銃の追加が可能です。 |
| ED-2600 |
光学多層膜生産用に最適な、コンピュータ制御による全自動装置です。実験用及び生産用に使えます。抵抗式と電子銃式の蒸発源を備え、幅広い材料の蒸着が可能で、光学式膜厚モニターが標準装備されています。 |
| ED-3100 |
マスフローコントローラ式ガス導入系をもっているため、反応性蒸着が可能です。光学式と水晶式の２種類の膜厚モニターによって、各種の膜厚制御が可能です。イオンプレーティング用の直流電源及び高周波電源も標準装備されています。 |
| ED-4100 |
前扉式、３ドームプラネタリー型で用途の多い中規模生産装置です。水晶式膜厚モニターの取り付けも可能です。 |
| ED-4300 |
前扉式、３ドームプラネタリー型の中規模生産用装置です。抵抗式と電子銃式の蒸発源をもっているので、幅広い材料の蒸着が可能です。水晶式膜厚モニターが標準装備されています。 |
