株式会社サンバック｢CVD装置｣

【真空溶解炉】【真空アーク溶解炉】【真空ホットプレス】【その他各種装置】

複合ロッド成形試験装置

最先端のテクノロジーを実現できるのは、
人類の創造力、構想力を追求し、複雑な化学反応を制御する空間です。
CVD装置は、超LSI・新素材・バイオテクノロジーの開発に
最高の喜びを感じさせてくれるでしょう。

サーマルCVD	サーマルCVDは、古くから集積回路の半導体の膜や、工具の寿命を向上させる膜に用いられ、現在でもCVDの中心的存在です。
プラズマCVD	太陽電池のアモルファスシリコン成膜に代表されるプラズマCVDは、熱エネルギーのみならず、放電によるプラズマが利用されています。膜の表面は、サーマルCVDと比較して表面があれておらず、緻密で光沢があります。
MOCVD レーザーCVD	今後の半導体にとって、レベリングがよく、緻密で純度が高く、パーティクルの少ない膜が不可欠となっています。これには比較的低いエネルギーレベルで、成膜ができるMOCVD(有機金属気相成長)が注目を集めています。また、未来の成膜法として、制御性がよく成膜エリアを眼定できるレーザーCVDが期待されています。
CVI	カーボン繊維またはセラミック繊維に、ダイアモンドライク膜やSiC膜を含浸させて、2000℃以上の高温に耐え、歪に強い新素材を開発する装置です。CVI装置による新素材は、ロケットの頭部などの、宇宙材料として利用されています。
マイクロ波CVD	ダイヤモンド生成装置